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報告書

The TEM-Accelerators Facility at JAERI-Takasaki and its application to materials science

阿部 弘亨; 楢本 洋; 北條 喜一; 古野 茂実

JAERI-Research 96-047, 18 Pages, 1996/09

JAERI-Research-96-047.pdf:0.96MB

原研高崎研イオン照射研究施設に設置された加速器結合型電子顕微鏡、及び材料科学への応用についての概説。本装置は400kVイオン注入装置と40kVイオン照射装置、ならびに400kV電子顕微鏡から成る。現在までに進行している研究テーマのうち、黒鉛の照射誘起非晶質化、金属/シリコン界面のイオンビームミキシング、マグネシアの照射損傷、スピネルの電子/イオン同時照射効果について概説した。

論文

Ion implantation, ion beam mixing, and annealing studies of metals in Al$$_{2}$$O$$_{3}$$, SiC and Si$$_{3}$$N$$_{4}$$

B.R.Appleton*; 楢本 洋; C.W.White*; O.W.Holland*; C.J.McHargue*; G.Farlow*; J.Narayan*; J.M.Williams*

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, B1, p.167 - 175, 1984/00

イオンビーム解析法、透過電子顕微鏡観察等を用いて、金属元素イオンビームを注入したAl$$_{2}$$O$$_{3}$$,SiC,Si$$_{3}$$N$$_{4}$$等のセラミックスの構造解析を行った。熱焼鈍による照射欠陥の回復と注入イオンの母結晶格子中での存在状態の変化を系統的に調べ、機械的性質との対応づけを行った。

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